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Mentor EDA 软件进一步支持三星Foundry 5/4nm 工艺技术
作者:数字通信世界   添加时间:2020-08-20
Mentor EDA 软件进一步支持三星Foundry 5/4nm 工艺技术。
Mentor, a Siemens business 旗下领先的 Calibre™ nmPlatform 和 Analog FastSPICE (AFS) 定制和模拟/混合信号 (AMS) 电路验证平台现已符合三星Foundry最新的5/4 nm FinFET工艺技术要求,客户可以使用最新的解决方案为其先进的IC 设计tapeouts进行验证和sign-off。
 
三星5nm FinFET 工艺在功耗、性能和面积 (PPA) 方面表现优异,其本身具备的增强功能,结合更加精细的5nm 几何尺寸,能够获得比前几代工艺节点更为出色的性能提升。
 
三星电子设计支持团队副总裁 Jongwook Kye 表示:“三星与 Mentor 的合作由来已久,我们的共同客户能够以此充分使用Calibre 解决方案的各种功能。现在,Calibre 和 AFS 都已通过最新的三星Foundry的工艺认证,双方的专业知识再次结合,帮助设计人员快速开发和验证创新型 IC,以应对各种高速增长的市场和应用需求。”
 
除 Calibre nmDRC 之外,同时通过三星Foundry的最新工艺认证的Mentor 工具还包括:
 
·        Calibre™ xACT - 该工具能够解决与先进纳米设计相关的技术挑战,包括多重曝光、FinFET、局部互连、高复杂性和更严苛的约束条件。其独特的混合引擎提供了场求解器的高精度,这对于FinFET 这类的精细3D 结构而言至关重要,此外Calibre xACT还提供快速的吞吐能力,可迅速完成全芯片设计。
 
·        Calibre™ YieldEnhancer - 具备 SmartFill 和ECO Fill 功能,客户可以控制设计平面度,并减少多次设计迭代的周转时间。Calibre YieldEnhancer 还可以通过自动 PowerVia 流程减少 IR 压降,从而帮助客户提升设计的可靠性。三星与 Mentor 合作定制了该工作流程,为其领先的制程技术提供最高数量的过孔加插。
 
·        Calibre™ PERC - 该工具采用独特集成的方法对物理版图和网表进行分析,进而将复杂的可靠性验证检查自动化。支持5/4nm 工艺的三星Foundry Calibre PERC 设计工具套件能够提供额外的验证检查功能,帮助客户应对与静电放电和闩锁效应可靠性相关的挑战。
 
·        Calibre™ nmLVS 可以作为任何三星Foundry提取流程的前端。Calibre nmLVS致力于解决持续增加的布局复杂性,并满足设计团队的高级计算需求,助其在验证复杂电路的同时,以预期的运行时间实现先进工艺节点设计。
 
·        Calibre™ RealTime 数字和定制接口平台 - 该平台利用同样通过三星Foundry认证批量Calibre的设计套件,在数字化和定制的设计流程中即时进行sign-off质量的DRC检查。在先进和成熟节点设计的 DRC 收敛期间,这些接口可带来显著的生产率优势,帮助客户快速优化其手动的DRC 修复,从而能更加专注于其PPA目标。
 
·        AFS 平台,该平台助力芯片级系统 (SoC) 设计人员充满信心地完成电路验证。三星Foundry的器件模型和设计工具套件均支持AFS 平台。双方的共同客户能够以此在验证模拟、射频、混合信号、存储器和定制数字电路上,实现比传统 SPICE 仿真器速度更快的纳米级 SPICE 精度验证。
 
“三星Foundry凭借最新工艺,不断提供高度创新的技术,以应对日趋复杂的 IC 设计难题,”Mentor Calibre 设计解决方案产品管理副总裁 Michael Buehler-Garcia 表示:“我们很高兴能与三星Foundry继续深化合作,并作为其创新解决方案中的关键设计要素,帮助双方的共同客户设计和制造最先进的IC产品。”